【技术实现步骤摘要】
本专利技术的实施例是有关于一种用于侦测半导体处理错误的方法。
技术介绍
1、半导体装置形成于半导体晶片上、形成于半导体晶片中及/或由半导体晶片形成，且用于例如以下多种电子装置中：行动电话、膝上型计算机、桌上型计算机、平板计算机、手表、游戏系统以及各种其他工业电子产品、商业电子产品及消费电子产品。在半导体制作中使用一或多个组件，以在半导体晶片上形成半导体装置、在半导体晶片中形成半导体装置、及/或由半导体晶片形成半导体装置。
技术实现思路
1、本专利技术实施例的一种用于侦测半导体处理错误的方法，包括：在使用半导体处理装置进行的半导体制作工艺期间，捕获所述半导体处理装置的腔室的视图的多个第一图像，所述半导体处理装置包括液体分配组件，所述液体分配组件被配置成对以完整帘幕轮廓进行流动的液体进行分配；确定所述多个第一图像的多个第一帘幕轮廓分类，其中所述多个第一帘幕轮廓分类中的帘幕轮廓分类指示：第一值，指示图像展示出所述液体以所述完整帘幕轮廓进行流动；或者第二值，指示所述图像未展示出所述液体以所述完整帘...
【技术保护点】
1.一种用于侦测半导体处理错误的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述多个第一帘幕轮廓分类包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其中：
4.根据权利要求3所述的方法，其中判断所述半导体制作工艺是否与所述潜在处理错误相关联包括：
5.根据权利要求1所述的方法，包括：
6.一种用于侦测半导体处理错误的方法，包括：
7.根据权利要求6所述的方法，其中：
8.根据权利要求7所述的方法，其中判断所述光掩模显影工艺是否与所述潜在处理错误相关联包括：
9.一种用于侦测半...
【技术特征摘要】
1.一种用于侦测半导体处理错误的方法，包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述多个第一帘幕轮廓分类包括：
3.根据权利要求1所述的方法，其中：
4.根据权利要求3所述的方法，其中判断所述半导体制作工艺是否与所述潜在处理错误相关联包括：
5.根据权利要求1所述的方法，包...
【专利技术属性】
技术研发人员：曾琛，林扬书，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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