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一种红外焦平面芯片的背减薄工艺制造技术
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文档序号:42881479
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本发明公开了一种红外焦平面芯片的背减薄工艺,涉及红外探测器技术领域,具体包括以下步骤:S1:贴片;S2:研磨;S3:抛光;S4:清洗干燥。本发明芯片背减薄工艺不仅可以将I nSb光敏元芯片平整度控制在1μm以内,还可以保护硅读出电路边缘PA...
该专利属于安徽昱升光电科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安徽昱升光电科技有限公司授权不得商用。
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