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零位错锗单晶制备方法技术
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文档序号:42857728
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一种零位错锗单晶制备方法包括步骤:S1,将腐蚀好的锗多晶装入提拉炉的坩埚中;S2,将提拉炉抽真空,保压在真空下一定时间;S3,步骤S2之后,通入氮气,维持排气,以保持流动式压力低于大气压;S4,切换至通氢气,维持通氢气并保持流动式压力,升温...
该专利属于安徽光智科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过安徽光智科技有限公司授权不得商用。
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