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用于形成具有邻近半导体器件对之间的栅极切割的集成电路的技术。那些邻近半导体器件对中的至少一个包括导电链路(例如，桥)，其穿过栅极切割以将邻近栅极连接在一起。在一个示例中，相邻的半导体器件均包括在源极区和漏极区之间延伸的半导体区，以及在相邻半...
该专利属于英特尔公司所有，仅供学习研究参考，未经过英特尔公司授权不得商用。

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