专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
英特尔公司
>
带棱锥形沟道结构的具有用于桶状栅极的均匀栅格金属栅极和沟槽接触插塞的集成电路结构制造技术
>技术资料下载
下载带棱锥形沟道结构的具有用于桶状栅极的均匀栅格金属栅极和沟槽接触插塞的集成电路结构的技术资料
文档序号:42831337
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本文公开了带棱锥形沟道结构的具有用于桶状栅极的均匀栅格金属栅极和沟槽接触插塞的集成电路结构。描述了带有棱锥形沟道结构的具有均匀栅格金属栅极和沟槽接触切口的集成电路结构。例如,集成电路结构包括水平纳米线的竖直堆叠体,该水平纳米线的竖直堆叠体具...
该专利属于英特尔公司所有,仅供学习研究参考,未经过英特尔公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。