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本申请公开了一种半导体器件、制备方法、存储器及系统，包括：第一器件以及与第一器件横向连接的切割道；切割道中包括金属结构和隐形裂解道，隐形裂解道在切割道横向截面上具有第一正投影，金属结构在切割道横向截面上具有第二正投影，第一正投影和第二正投影...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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