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本发明公开了一种晶圆级铁磁金属有机薄膜及其制备方法，属于碳金属有机薄膜制备领域，所述方法包括如下步骤：利用低压化学气相沉积（LPCVD）方法，以金属酞菁作为分子前驱体，铜箔作为生长基底，在氢氩混合气氛围中进行加热反应，生长完成后快速降温；制...
该专利属于南京航空航天大学所有，仅供学习研究参考，未经过南京航空航天大学授权不得商用。

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