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本发明属于合成高分子领域，公开了一种在ATRP过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法及应用，方法为：在ATRP过程中，对体系加热处理，使其中的水溶性易热自聚单体裂解生成自由基，将高氧化态过渡金属离子还原成低氧化态过渡金属离子，以实现稳定低...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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