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在ATRP过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法及应用技术

技术编号:42706890 阅读:34 留言:0更新日期:2024-09-13 11:59
本发明专利技术属于合成高分子领域,公开了一种在ATRP过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法及应用,方法为:在ATRP过程中,对体系加热处理,使其中的水溶性易热自聚单体裂解生成自由基,将高氧化态过渡金属离子还原成低氧化态过渡金属离子,以实现稳定低氧化态过渡金属离子含量;其应用为:将含水溶性易热自聚单体、引发剂、配体、高氧化态过渡金属盐和水的反应溶液加热(反应温度大于水溶性易热自聚单体的热裂解温度且二者的差值不高于50℃)后,进行反应,得到水溶性聚合物。本发明专利技术可达到稳定低氧化态过渡金属离子含量的目的,反应可控性强,避免了复杂的操作流程,并适用于生物体系,且转化率高,适合工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于合成高分子领域,具体涉及一种在atrp过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法及应用。


技术介绍

1、原子转移自由基聚合方法(atrp)是将单体、引发剂、催化剂及配体进行聚合反应,得到聚合物。atrp已经成功实现了多种单体的活性聚合,如苯乙烯类、丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、丙烯腈类、丙烯酰胺类、4-乙烯基吡啶类等。

2、传统atrp利用低氧化态过渡金属盐作为催化剂,含溴有机物作为引发剂,以实现稳定的链增长反应。但是,如图5所示,当atrp在水相中进行时,低氧化态过渡金属离子在水中会发生不可避免的歧化反应,导致催化剂含量减少,进而使反应终止或者失控,因此需要在atrp过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量。

3、现有技术在atrp过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法包括:①在atrp体系中加入过量的低氧化态过渡金属离子;②在atrp体系中加入还原剂将高氧化态过渡金属离子还原成低氧化态过渡金属离子,保持低氧化态过渡金属离子的含量来改善atrp在水溶液中的稳定性,如文献《proc.natl.acad.sci.u.s.a.,2本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种在ATRP过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法,其特征在于,在ATRP过程中,对ATRP体系进行加热处理,使其中的水溶性易热自聚单体裂解生成自由基,将高氧化态过渡金属离子还原成低氧化态过渡金属离子,以实现稳定低氧化态过渡金属离子含量。

2.采用如权利要求1所述的一种在ATRP过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,将含水溶性易热自聚单体、引发剂、配体、高氧化态过渡金属盐和水的反应溶液加热后,进行反应,得到水溶性聚合物;

3.根据权利要求2所述的一种在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,所述水...

【技术特征摘要】

1.一种在atrp过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法,其特征在于,在atrp过程中,对atrp体系进行加热处理,使其中的水溶性易热自聚单体裂解生成自由基,将高氧化态过渡金属离子还原成低氧化态过渡金属离子,以实现稳定低氧化态过渡金属离子含量。

2.采用如权利要求1所述的一种在atrp过程中稳定低氧化态过渡金属离子含量的方法在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,将含水溶性易热自聚单体、引发剂、配体、高氧化态过渡金属盐和水的反应溶液加热后,进行反应,得到水溶性聚合物;

3.根据权利要求2所述的一种在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,所述水溶性易热自聚单体的结构式如下:

4.根据权利要求2所述的一种在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,所述水溶性易热自聚单体为水溶性含双键两性离子单体或水溶性含醚键单体。

5.根据权利要求2所述的一种在水相中自引发合成水溶性聚合物的方法,其特征在于,所述引发剂为含卤素化合物或表面接枝卤素生物分子或细胞。

6.根据权利要求2所述的一种在水相中自引发...

【专利技术属性】
技术研发人员:朱波潘齐超
申请(专利权)人:上海大学
类型:发明
国别省市:

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