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本发明涉及可压缩射流及光刻机技术领域，尤其为一种低压高速射流实验装置，包括电控柜、可移动支架、射流腔室、真空计、质量流量控制器及抽真空装置，所述电控柜固定安装在可移动支架内上部，所述射流腔室和质量流量控制器均固定安装在可移动支架的上端，且质...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

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