一种低压高速射流实验装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及可压缩射流及光刻机技术领域，尤其为一种低压高速射流实验装置，包括电控柜、可移动支架、射流腔室、真空计、质量流量控制器及抽真空装置，所述电控柜固定安装在可移动支架内上部，所述射流腔室和质量流量控制器均固定安装在可移动支架的上端，且质量流量控制器置于抽气口一端以向腔室内补充实验气体，用于维持腔室内的气压恒定。本发明专利技术所述的一种低压高速射流实验装置，结构简单，易于实现，填补了国内低压射流实验方法领域的空白，可实现在0.5‑10SLPM的进气流量下真空压力维持在10‑200Pa，射流中心速度可达400m/s，为低压环境下开展流体相关实验提供完备清晰的指导，丰富了流体力学实验操作方式，且经验证具有极高的可行性与应用价值。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及可压缩射流及光刻机，特别涉及一种低压高速射流实验装置。

技术介绍

1、低压环境下的气体射流研究具有广泛应用，包括航空航天以及工业领域。在高空飞行中气压会急剧下降，深入了解气体射流在低压环境下的流动特性，可为飞行器的设计提供理论指导，从而提高飞机的性能与稳定性。除此之外，用于制造集成电路和微电子器件的光刻机中，也时常引入射流气体以清洁腔室污物，通过开展低压高速射流实验，可以深入了解气体在光刻机内部的流动行为，从而优化射流参数和流动路径以提高光刻机的工作效率。

2、然而，在低压条件下开展可压缩气体的射流实验具有一定的难度，如真空腔体的设计、抽真空设备的选型，piv系统的调配等。因此，一种设计合理的低压高速射流实验装置具有重要的理论研究意义与实际应用价值。

技术实现思路

1、本专利技术的主要目的在于提供一种低压高速射流实验装置，可以有效解决
技术介绍
中的问题。

2、为实现上述目的，本专利技术采取的技术方案为：

3、一种低压高速射流实验装置，包括电控柜、可移动支架、射流本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种低压高速射流实验装置，其特征在于：包括电控柜(1)、可移动支架(2)、射流腔室(3)、真空计(4)、质量流量控制器(5)及抽真空装置，所述电控柜(1)固定安装在可移动支架(2)内上部，所述射流腔室(3)和质量流量控制器(5)均固定安装在可移动支架(2)的上端，且质量流量控制器(5)置于抽气口一端以向腔室内补充实验气体，用于维持腔室内的气压恒定；

2.根据权利要求1所述的一种低压高速射流实验装置，其特征在于：所述射流腔室(3)的通体为圆柱形结构，且射流腔室(3)的腔室长度为600mm，可令射流结构充分发展，所述射流腔室(3)的左右两侧分别设置有激光入射口件(8)和射流入...

【技术特征摘要】

1.一种低压高速射流实验装置，其特征在于：包括电控柜(1)、可移动支架(2)、射流腔室(3)、真空计(4)、质量流量控制器(5)及抽真空装置，所述电控柜(1)固定安装在可移动支架(2)内上部，所述射流腔室(3)和质量流量控制器(5)均固定安装在可移动支架(2)的上端，且质量流量控制器(5)置于抽气口一端以向腔室内补充实验气体，用于维持腔室内的气压恒定；

2.根据权利要求1所述的一种低压高速射流实验装置，其特征在于：所述射流腔室(3)的通体为圆柱形结构，且射流腔室(3)的腔室长度为600mm，可令射流结构充分发展，所述射流腔室(3)的左右两侧分别设置有激光入射口件(8)和射流入口件(9)。

3.根据权利要求1所述的一种低压高速射流实验装置，其特征在于：所述射流腔室(3)外表面的前后两侧均设置有两个透明观察窗(13)，所述射流腔室(3)外表面的顶部设置有真空计接口(10)、温度监测口(11)和真空抽气口(12)。

4.根据权利要求1所述的一种低压高速射流实验装置，其特征在于：所述射流腔室(3)的顶部通过真空计接口(10)固定连接有真空计(4)以实时监测腔室内压力，所述真空计(4)包括一个电阻规及一个皮拉尼真空计，所述射流腔室(3)的顶部通过温度监测口(11)固定连接有pt100温度探头。

5.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈鑫，张思雨，王宇泽，王伯福，庄启亮，周全，吴建钊，
申请(专利权)人：上海大学，
类型：发明
国别省市：