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一种用于清洁与光刻过程相关的诸如表膜、掩膜、晶片的部件或另一光刻部件的清洁系统，包括至少一个辐射发射器，所述至少一个辐射发射器被配置成在使用中辐照所述部件的区，以在所述部件中引起热机械振动和/或引发存在于所述部件上的污染物的溅射。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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