温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

提供一种在等离子体处理装置中进行的等离子体处理方法。等离子体处理方法包括工序(a)，在该工序(a)中，在向等离子体处理装置的腔室内供给气体的状态下，向基板支承部的下部电极施加电压。基板支承部被设置在腔室内。等离子体处理方法还包括工序(b)，...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。