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本发明具备：处理腔室，具有用以处理基板的处理空间；支撑部，以水平姿势支撑基板且收容于处理空间；流体供给部，通过向处理腔室供给处理流体，在处理空间中使处理流体在固定方向流动；以及流体排出部，从处理腔室排出处理流体。支撑部具有与基板的下表面对向...
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