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本发明公开具有均匀温度分布晶片支撑的电容耦合等离子体反应装置。用于处理工件的等离子体反应装置包括反应室、在室内用于支撑工件的静电吸盘、耦合用来向静电吸盘施加ＲＦ功率的ＲＦ等离子体偏置功率发生器以及具有在静电吸盘内部并且具有入口和出口的热交换...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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