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本公开提供一种处理方法和处理装置，能够通过干法工艺来去除金属氧化膜。基于本公开的一个方式的处理方法包括去除金属氧化膜的工序，在所述去除金属氧化膜的工序中，向处理容器内供给含卤素的气体来去除所述处理容器内的金属氧化膜。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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