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本发明提供一种能够适当地控制荷电粒子的动作的等离子体处理装置。等离子体处理装置(1)包括处理室(2)。在处理室(2)的内部包括：载台(3)，供作为被处理物的被处理基板(H1)设置；天线(4)，用于在处理室(2)的内部产生感应耦合性的等离子体...
该专利属于日新电机株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日新电机株式会社授权不得商用。

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