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本发明公开了一种增强光刻分辨率和异质集成精度的制备方法，属于微纳制造技术领域，通过将光刻胶薄膜置于悬空状态执行曝光过程，消除衬底对于光刻分辨率，然后通过透明载体将曝光后的光刻胶剥离并完成显影，之后将显影后的光刻胶图案转移释放至目标衬底。所述...
该专利属于湖南大学所有，仅供学习研究参考，未经过湖南大学授权不得商用。

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