温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种液相输送CVD工艺制备TaC涂层系统及方法，通过改进工艺以及设计一套沉积进料系统，将液相的碳源和钽源同时导入反应腔体，在反应腔体中直接气化。避开现有工艺存在的问题，不需要载气，可精确控制溶液流量；液体直接进入反应腔中气化，无阻...
该专利属于上海大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海大学授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。