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本申请涉及一种料托组件及具有其的清洗设备，其中，一种料托组件，包括：架体和活动底托，架体包括底板和至少两个立板，两个立板均垂直连接在底板上，相邻立板与底板之间形成容纳空间；活动底托可活动地设置于容纳空间内，活动底托设置有硅片的承载面，承载面...
该专利属于安徽清电硅业有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽清电硅业有限公司授权不得商用。

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