料托组件及具有其的清洗设备制造技术

技术编号:42473372 阅读:22 留言:0更新日期:2024-08-21 12:57
本申请涉及一种料托组件及具有其的清洗设备,其中,一种料托组件,包括:架体和活动底托,架体包括底板和至少两个立板,两个立板均垂直连接在底板上,相邻立板与底板之间形成容纳空间;活动底托可活动地设置于容纳空间内,活动底托设置有硅片的承载面,承载面与底板呈角度设置,且硅片位于承载面时,承载面与架体形成硅片的锁定。通过活动底托的设置使得承载面能够进行活动,将容纳空间内的硅片进行移动,避免硅片沉底在分片池的底部,导致出料不及时的情况,影响出料效率。本申请有效地解决了现有技术中对需要除胶后的硅片进行分片时,硅片容易沉底在分片池内,不能完全出料的问题。

【技术实现步骤摘要】

本申请涉及硅片生产设备的,尤其涉及一种料托组件及具有其的清洗设备


技术介绍

1、在大尺寸单晶硅片的生产过程中,硅棒经过金刚线切割被制作为薄片,之后需要脱胶处理,再将单晶硅片进行清洗和烘干,制造为合格单晶硅片,此单晶硅片作为太阳能电池制造的基础原料,在太阳能发电领域具有重要作用。

2、在单晶硅片脱胶过程之后,由于硅片表面存在较多的杂质,通常需要对硅片进行清洗。进行脱胶处理后的硅片叠置粘连在一起,进行清洗前需要将硅片进行分开,以便于后续的完全清洗处理。由于硅片的厚度较小,硅片整体较薄,而质量较大,所以需要采用料托结构进行硅片的承载,然后在分片池内进行分片处理,分片池内具有缓冲作用的大量液体,便于分片。现有技术中的料托结构仅用于承载,料托结构上的硅片会随着重力的作用,沉在底部,这就导致进行清洗作业时,无法完全出料。采用人工进行硅片的捞取较为困难,还会影响硅片清洗的效率。


技术实现思路

1、本申请提供了一种料托组件及具有其的清洗设备,以解决现有技术中对需要除胶后的硅片进行分片时,硅片容易沉底在分片池内,本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种料托组件,用于硅片的装载运输,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的料托组件,其特征在于,相邻所述立板(12)相互平行地设置,所述立板(12)的一侧设置有限位结构(14),沿靠近所述限位结构(14)至远离所述限位结构(14)的方向,所述承载面(21)与所述底板(11)之间的距离逐渐增大。

3.根据权利要求2所述的料托组件,其特征在于,所述架体(10)设置有顶板(15),所述顶板(15)分别与所述立板(12)远离所述底板(11)的一端固定连接,所述限位结构(14)与所述顶板(15)连接。

4.根据权利要求3所述的料托组件,其特征在于,所述限...

【技术特征摘要】

1.一种料托组件,用于硅片的装载运输,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的料托组件,其特征在于,相邻所述立板(12)相互平行地设置,所述立板(12)的一侧设置有限位结构(14),沿靠近所述限位结构(14)至远离所述限位结构(14)的方向,所述承载面(21)与所述底板(11)之间的距离逐渐增大。

3.根据权利要求2所述的料托组件,其特征在于,所述架体(10)设置有顶板(15),所述顶板(15)分别与所述立板(12)远离所述底板(11)的一端固定连接,所述限位结构(14)与所述顶板(15)连接。

4.根据权利要求3所述的料托组件,其特征在于,所述限位结构(14)为软管。

5.根据权利要求4所述的料托组件,其特征在于,所述活动底托(20)对应所述立板(12)设置有第一配合部(22),所述第一配合部(22)至少部分环绕所述立板(12),所述立板(12)可相对所述第一配合部(22)沿垂直于所述底板(11)的方向滑动。

6.根据权利要求5所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员:赵旺张娟宁齐成天杨正文鲍正浩
申请(专利权)人:安徽清电硅业有限公司
类型:新型
国别省市:

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