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电子光学设备、子束的属性的变化的补偿方法技术
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文档序号:42378659
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公开了电子光学设备和相关方法。在一个布置中,电子光学设备将带电粒子的子束的多束投射到样品。提供了多个板,相应孔径阵列被限定在该多个板中。这些板包括物镜阵列,该物镜阵列被配置为朝向样品投射子束。限定在板中的至少两个板中的孔径阵列各自具有被配置...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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