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本发明提供了一种化学机械精抛液，其为包含以下成分的水溶液：2～12 wt.%的高纯磨料、0.01～0.5 wt.%的聚乙烯吡咯烷酮、0.001～0.08 wt.%的烷基糖苷类表面活性剂以及0.1～1 wt.%的甘油衍生物。本发明还提供了所述...
该专利属于万华化学集团电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过万华化学集团电子材料有限公司授权不得商用。

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