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本发明的异物检测装置构成为能够检测基片处理用的处理液中含有的异物，包括：形成供对基片供给的上述处理液流动的处理液流路的处理液流路形成部；照射部，其构成为能够向处理液流路分别照射来自光源的照射光；和受光部，其构成为能够接收通过照射照射光而从处...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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