异物检测装置和异物检测方法制造方法及图纸

本发明专利技术的异物检测装置构成为能够检测基片处理用的处理液中含有的异物，包括：形成供对基片供给的上述处理液流动的处理液流路的处理液流路形成部；照射部，其构成为能够向处理液流路分别照射来自光源的照射光；和受光部，其构成为能够接收通过照射照射光而从处理液流路出射的光。照射部包括使照射多个处理液流路的照射光的光量彼此不同的光调节部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及异物检测装置和异物检测方法。

技术介绍

1、在专利文献1中，公开了如下方法：作为对供向基片供给的流体流通的供给通路中的异物进行光学检测的基片处理装置，对供流体流通的流路形成部投射光，其结果，接收从流路形成部产生的光，根据其强度来检测异物。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1：日本特开2020-119996号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、本专利技术提供能够根据对象液的状态高效地进行异物检测的技术。

3、用于解决技术问题的技术方案

4、本专利技术的一个方式的异物检测装置构成为能够检测基片处理用的处理液中含有的异物，包括：多个处理液流路形成部，其形成供对基片供给的上述处理液流动的处理液流路；照射部，其构成为能够向上述多个处理液流路的每一者单独地照射来自光源的照射光；和受光部，其构成为能够接收通过照射上述照射光而从上述处理液流路出射的光，上述照射部包括光调节部，该光调节部使照射上述多个处理液流路的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种异物检测装置，其特征在于：

2.如权利要求1所述的异物检测装置，其特征在于：

3.如权利要求1或2所述的异物检测装置，其特征在于：

4.如权利要求3所述的异物检测装置，其特征在于：

5.如权利要求4所述的异物检测装置，其特征在于：

6.一种异物检测方法，其特征在于：

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种异物检测装置，其特征在于：

2.如权利要求1所述的异物检测装置，其特征在于：

3.如权利要求1或2所述的异物检测装置，其特征在于：

【专利技术属性】
技术研发人员：林圣人，东广大，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：