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公开了一种用于EUV系统的导管结构，其中导管的非水平内部表面设置有流动障碍物，该流动障碍物阻止熔融目标材料跨表面流动，以使熔融目标材料冻结在内部表面上并且被内部表面捕获。在导管是目标材料微滴从EUV腔室流出所通过的导管的情况下，导管的侧面上...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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