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本发明公开了一种晶圆原子层沉积反应设备的调度方法、系统、设备及介质。晶圆原子层沉积反应设备至少包括前端调度单元、预抽真空室、后端调度单元和反应腔室;原子层沉积反应设备的调度方法包括:获取预抽真空室的阀门开启状态信息;获取前端调度单元的第一工...该专利属于浙江求是创芯半导体设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过浙江求是创芯半导体设备有限公司授权不得商用。
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