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用于辐射源的光学系统和方法技术方案
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下载用于辐射源的光学系统和方法的技术资料
文档序号:42167643
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一种用于将第一激光脉冲和第二激光脉冲沿光轴引导到目标以从所述目标产生极紫外辐射的光学系统。该光学系统包括:第一光学部件,该第一光学部件被配置为重新分配第一激光脉冲以形成具有中空区域的经整形的激光脉冲。该光学系统包括第二光学部件,该第二光学部...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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