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本发明提供一种前照式SPAD器件及其制备方法，通过将SPAD结构上方的介质阻挡层刻蚀去除，使得SAPD结构对光的探测效率得以增加。...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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