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本发明提供一种基于硼掺杂多晶硅复合膜层的钝化接触结构及其制备方法，钝化接触结构包括依次层叠设置的隧穿层、第一掺硼多晶硅层、氮硅化物层和第二掺硼多晶硅层，所述第二掺硼多晶硅层的硼掺杂浓度大于所述第一掺硼多晶硅层的硼掺杂浓度。本发明提出一种具有...
该专利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院宁波材料技术与工程研究所授权不得商用。

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