温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

一种集成电路器件包括：后布线结构；绝缘衬底，设置在所述后布线结构上并且包括在第一水平方向上延伸的鳍结构；器件隔离层，设置在所述鳍结构之间；下绝缘层，覆盖所述鳍结构；栅极结构，在与所述第一水平方向交叉的第二水平方向上延伸；多个纳米片堆叠件，设...
该专利属于三星电子株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过三星电子株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。