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用于半导体晶片加工的外延反应器中的冷却流体流动的动态控制的系统及方法技术方案
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下载用于半导体晶片加工的外延反应器中的冷却流体流动的动态控制的系统及方法的技术资料
文档序号:42076246
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一种外延反应器系统包含反应器、冷却回路及控制器。所述反应器包含:反应腔室,其具有上壁及下壁;上模块,其定位于所述上壁上方;及下模块,其定位于所述下壁下方。所述冷却回路包含:鼓风机,其用以使流体在所述上模块及所述下模块内循环;及阻尼器,其可选...
该专利属于环球晶圆股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过环球晶圆股份有限公司授权不得商用。
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