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本发明涉及硅片清洗技术领域，并公开了一种万向工件辅助定位的高纯硅料半自动清洗设备，包括设备部，所述设备部包括主机柜体，所述主机柜体内部开设有可用于外部硅片进行清洗的浸泡槽，万向工件部，所述万向工件部位于浸泡槽围成的空间中，所述万向工件部包括...
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