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一种半导体结构及其形成方法，所述形成方法包括：提供基底以及覆盖于所述基底表面的掩膜层后，在掩膜层表面上形成多个分立的第一牺牲图形和至少一个第二牺牲图形，第一牺牲图形和第二牺牲图形包括初始牺牲图形和覆盖初始牺牲图形侧壁及顶面的侧墙层，相邻的第...
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