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本发明提供了一种抛光机及抛光状态监测方法，属于晶片抛光技术领域，解决了现有技术抛光机停机次数多的问题。本发明的抛光机包括抛光盘，抛光盘上设有抛光垫，用于抛光晶片；抛光头，抛光头设置于抛光盘上方，抛光头包括：软基垫和本体，软基垫设置于抛光头底...
该专利属于浙江求是半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江求是半导体设备有限公司授权不得商用。

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