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本发明提供一种气压供给管路及CVD装置,包括与气源连接的总管道、分别与所述总管道连通的分支管道,所述分支管道包括与用于控制有害气体的供给的开闭装置连接的第一分支管道;在所述总管道上沿气体流动方向依次设置有总开关阀、气压调节装置和杂质去除装置...该专利属于盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司授权不得商用。
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