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披露了一种加工衬底的方法，该方法包括在衬底上形成极紫外(EUV)‑活性光致抗蚀剂膜，该膜包含以烷氧基封端的金属氧化物网络，以及用EUV光刻图案化EUV‑活性光致抗蚀剂膜。...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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