专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
东京毅力科创株式会社
>
基片处理系统和基片处理方法技术方案
>技术资料下载
下载基片处理系统和基片处理方法的技术资料
文档序号:41882997
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
能够与曝光装置(5)连接的基片处理系统(1)包括:用于对基片进行处理的基片处理装置(2);和用于连接所述基片处理装置和所述曝光装置的第1供给路径(110),其能够将在所述基片处理装置中使用后的冷却水供给至所述曝光装置。采用该结构,能够减少基...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。