基片处理系统和基片处理方法技术方案

能够与曝光装置(5)连接的基片处理系统(1)包括：用于对基片进行处理的基片处理装置(2)；和用于连接所述基片处理装置和所述曝光装置的第1供给路径(110)，其能够将在所述基片处理装置中使用后的冷却水供给至所述曝光装置。采用该结构，能够减少基片处理系统和曝光装置中的冷却水的总使用量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及基片处理系统和基片处理方法。

技术介绍

1、专利文献1公开了一种显影装置，其包括：用于进行显影处理的显影槽；用于贮存供给至显影槽的显影液的显影液贮存箱；和使冷却水循环来将显影液贮存箱内的显影液冷却的循环冷却系统。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2011-192775号公报

技术实现思路

1、专利技术要解决的技术问题

2、本专利技术的技术用于使基片处理系统和曝光装置中的冷却水的总使用量减少。

3、用于解决技术问题的手段

4、本专利技术的一个方式是一种基片处理系统，其能够与曝光装置连接，所述基片处理系统的特征在于，包括：用于对基片进行处理的基片处理装置；和用于连接所述基片处理装置和所述曝光装置的第1供给路径，其能够将在所述基片处理装置中使用后的冷却水供给至所述曝光装置。

5、专利技术效果

6、采用本专利技术，能够使基片处理系统和曝光装置中的冷却水的总使用量减少。

【技术保护点】

1.一种基片处理系统，其能够与曝光装置连接，所述基片处理系统的特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：

3.如权利要求2所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：

4.如权利要求3所述的基片处理系统，其特征在于：

5.如权利要求2～4中任一项所述的基片处理系统，其特征在于，具有：

6.如权利要求5所述的基片处理系统，其特征在于：

7.如权利要求1～6中任一项所述的基片处理系统，其特征在于：

8.如权利要求1～7中任一项所述的基片处理系统，其特征在于：p>

9.一种基...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基片处理系统，其能够与曝光装置连接，所述基片处理系统的特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：

3.如权利要求2所述的基片处理系统，其特征在于，还包括：

4.如权利要求3所述的基片处理系统，其特征在于：

5.如权利要求2～4中任一项所述的基片处理...

【专利技术属性】
技术研发人员：矢羽田庆一，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：