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本发明提供一种用于原位测量膜厚的方法、参考光谱生成方法及设备，所述参考光谱生成方法包括：获取光谱计算模型，所述光谱计算模型中包括表面等效层和晶圆的参数，所述表面等效层至少用于模拟晶圆薄膜表面的体相水与晶圆薄膜表面之间的物质形成的层；确定所述...
该专利属于北京特思迪半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京特思迪半导体设备有限公司授权不得商用。

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