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本公开涉及一种等离子体处理方法和等离子体处理装置，能够提高等离子体工艺的效率。等离子体处理方法包括工序(a)、工序(b)以及工序(c)。在工序(a)中，在周期性地重复进行向腔室的处理气体的供给以及所述腔室内的排气的等离子体处理中，通过检测所...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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