下载晶片沉积设备的颗粒清除装置及方法的技术资料

文档序号:41882003

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种晶片沉积设备的颗粒清除装置及方法,包括:工艺腔室,配置有吸盘、升降装置与花洒头,所述吸盘固定晶片,所述升降装置升降所述吸盘;传送腔室,配置有机械臂,所述机械臂传送所述晶片;闸门,设置在所述工艺腔室与所述传送腔室之间;吹扫阀门,...
该专利属于盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过盛吉盛(韩国)半导体科技有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。