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公开了使用具有增强的束波探测电流的多带电粒子束装置来检查样品的系统和方法。该装置可以包括带电粒子源、被配置为聚焦多个带电粒子束以在交叉点处形成束交叉的第一会聚透镜和被配置为准直所聚焦的多个带电粒子束的第二会聚透镜，其中交叉点沿着主光轴形成在...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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