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提供了一种用于处理衬底的装置。电容耦合等离子体电极在电容耦合等离子体处理室内。等离子体约束部件在该电容耦合等离子体处理室内，其中该电容耦合等离子体电极和等离子体约束部件中的至少一者包含：金属部件主体，其具有面向等离子体的表面；以及等离子体喷...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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