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本申请提供了一种用于等离子体反应室的基座调整装置，包括：具有水平度调节板和多个水平度调节件的水平度调节机构，多个水平度调节件被配置为调节基座的水平度；包括第一方向调节组件和第二方向调节组件的对中调节机构，第一方向调节组件被配置为沿第一方向调...
该专利属于研微（江苏）半导体科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过研微（江苏）半导体科技有限公司授权不得商用。

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