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提供了一种表膜隔膜，包括在硅基基质中的金属硅化物晶体群，其中表膜隔膜具有0.3或更高的发射率。还提供了一种制造表膜隔膜、表膜组件、包括这种表膜隔膜或表膜组件的光刻设备的方法。还描述了这种表膜隔膜、表膜组件或光刻设备在光刻设备或方法中的用途。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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