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公开了一种使用系统内公用载物台针对光刻系统中的晶片台和其他部件提供服务功能的设备和方法，其中公用载物台可以访问多个工具而没有打开容纳公用载物台和晶片台以及其他部件的外壳的任何需要，从而提高产量并减少停机时间。...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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