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本发明公开了一种兼具WC去除和蚀刻残留物清洁的组合物，组合物包括有机溶剂、氧化剂、含氟物质、羧酸盐、有机羧酸、腐蚀抑制剂、氨、钝化剂和余量的水。本发明的蚀刻液用于先进铜制程中金属硬掩模材料WC的去除和蚀刻残留物的清洁，相对于AlOx、Low...
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