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本发明提供化学气相沉积炉管的清洗工艺及具有清洗功能的炉管，包括如下步骤：封闭内部具有待清洗层的腔体，设定腔体内部的环境条件；从腔体的底部通入清洗气体，清洗腔体内的待清洗层；其中，设定腔体内部环境条件包括：腔体内部温度从底部到顶部进行由高至低...
该专利属于盛美半导体设备(上海)股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过盛美半导体设备(上海)股份有限公司授权不得商用。

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