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本公开内容关于一种用于处理腔室的气体注入模块。处理腔室包括：腔室主体；可旋转的基板支撑件，其设置在腔室主体的处理容积内部，基板支撑件被配置成具有旋转自旋速率；形成于腔室主体中的入口端口；及耦接到入口端口的注入模块。注入模块包括：主体；耦接到...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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